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제목 한국과학기술연구원(KIST) PIII&D(Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition) 연구실 인원모집
날짜 2012-11-28 조회수 1731

 

한국과학기술연구원(KIST)
PIII&D(Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition) 연구실 인원모집


삼성, 엘지 등 제조산업에서 많이 쓰는 플라즈마 장비에 대해 배웁니다.
삼성전자, 핵융합연구소, 엘지디스플레이, 한국과학기술연구원, KIST 독일연구소 등 졸업자 10여명
연구실은 KIST에 있고, 소속은 고려대 등으로 공학석(박)사 학위를 받게 됩니다.
학비 상당의 연구비와 과제별 성과급 등을 받습니다.
특허를 많이 쓸 수 있어 큰 도움이 됩니다.
2012 전반기 KIST 학연 석사 우수 졸업생 배출
2012 후반기 KIST 학연 석사 최우수 졸업생 배출
SCI 논문 1편 이상 게재, 공동저자로 수 편 게재.
입학 문턱이 높지 않으니 많은 지원 부탁드립니다.
일자무식으로 들어와 현장 지휘자가 되어 나가게 됩니다.


PIII & D (Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition)
- 세계 최초 고체원소 플라즈마 이온주입 장비 (자체 개발, 미국 특허 출원)
- 플라즈마를 이용한 소재의 고기능성 표면개질 기술 개발
- Quantum Dot, 촉매, 생체재료, HiPIMS 등 다양한 실험 가능


PVD (Pulsed-DC Magnetron Sputtering Physical Vapor Deposition)
- 광촉매(Photo-Catalyst) 등에 적용


VHF-PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
- 박막실리콘 (a-Si:H, uc-Si:H) 태양전지 재료 개발


모집분야 : 재료, 물리, 화학, 전기전자 및 관련 전공
모집대상 : 학부 4년 이상의 재학생 및 기졸업자
* 학부재학생은 근무와 학업을 병행할 수 있어야 합니다.
모집인원 : 0명제출서류 : 이력서 및 자기소개서, 대학(원) 성적증명서 각 1부 (총2부)
특혜사항 : KIST 학연 학생으로 고려대, 연세대, 한양대 등 대학원 입학 가능
* 전기 학연 과정에 지원하실 분들은 그전에 contact 하시기 바랍니다.
* 대학원 학비 상당의 장려금 지원
문의사항 : 02) 958-5453, 010-9228-1742(장진혁), T12565@kist.re.kr
* E-mail 상시 체크하니 부담없이 많은 문의 바랍니다.


KIST(한국과학기술연구원) : http://www.kist.re.kr/
학연학생과정 : http://www.kist.re.kr/ki/ms.jsp

 

 

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